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发展方向

 

本所成立之目的乃在因应未来科技整合之发展趋势,并结合光电工程、机械、电机、资讯与物理等跨学科之研究所,重点在训练具有光电科技与微奈米光机电科技等跨领域与跨学科之专业人才。
本所之研究发展重点包括:(1)光电影像显示技术、(2)微奈米光机电技术。

 

光电影像显示技术
尖端平面显示技术:液晶平面显示(LCD)、有机分子电激发光平面显示(OLED)、高分子电激发光平面显示(PLED)、
场发射光平面显示(FED)、可挠式基板平面显示器和其他前瞻显示技术等。

有机及无机光电元件:白光OLED、无机半导体白光发光元件和半导体发光二极管等。

光学投射与成像系统:背光模组与元件和液晶投影显示技术等。

半导体雷射技术:半导体雷射和半导体雷射光电调制性质等。

TFT制程技术:低温多孔矽晶TFT制程、无机TFT制程和有机TFT制程等。

微奈米光机电技术
微奈米光机电元件与系统:生医光机电元件与系统、生医光电检测、微奈米控制与传感和微奈米检测等。

奈米光电:光子晶体、奈米显微、奈米光电材料与元件和奈米资讯储存等。

积体光学:积体光学元件与系统、光波导元件、光电调制器和DWDM元件等。

微奈米加工与制程:微奈米结构制作与检测、光学微影和软性微影等。